| 1. Равномерная обработка порошка | Вращающийся барабан объемом 1,65 л обеспечивает непрерывное перемешивание во время воздействия плазмы, что способствует однородной модификации поверхности порошков и гранулированных материалов. |
|---|---|
| 2. Бережная и контролируемая плазменная обработка | Мощность плазмы 300 Вт обеспечивает стабильную и точную обработку, что делает ее идеальной для чувствительных порошков без причинения термического повреждения. |
| 3. Точное регулирование потока газа | Оснащенная стандартными двумя микробными топливными элементами (Ar и O₂), система обеспечивает точное смешивание газов и воспроизводимые параметры процесса для стабильной функционализации поверхности. |
| 4. Компактность и удобство в использовании. | Настольная конструкция в сочетании с системой управления на базе ПЛК Siemens обеспечивает простоту эксплуатации, надежную работу и пригодность для лабораторных исследований и мелкосерийного производства. |
Настольная вакуумная плазменная система обработки порошков VL-10-F специально разработана для равномерной модификации поверхности порошков и гранулированных материалов с использованием вращающегося барабана объемом 1,65 литра. Встроенное вращение барабана обеспечивает непрерывное перемешивание во время обработки, что позволяет обеспечить однородное воздействие плазмы и стабильные результаты обработки. Система, работающая от стабильного плазменного генератора мощностью 300 Вт, обеспечивает точную и щадящую активацию поверхности, подходящую для обработки чувствительных порошков. Оснащенная системой управления ПЛК Siemens и двумя стандартными топливными элементами (Ar и O₂), она обеспечивает точное регулирование потока газа, повторяемый контроль процесса и надежную работу в лабораторных условиях.
| Основной блок плазмы | Габариты (Д*Ш*В) | 620*550*680 мм |
| Камера (Д*Ш*В) (с возможностью индивидуальной настройки) | 200*250*200 мм | |
| Вращающийся барабан (Д*Ø) (с возможностью индивидуальной настройки) | 110*138 мм | |
| Вес без насоса | 200 кг | |
| Источник питания плазмы | Источник питания плазмы | 13,56 МГц |
| Номинальная мощность | 300 Вт | |
| Система управления | Метод управления (ПЛК) | Siemens – SIMATIC HMI Smart 700 IE V5 |
| Отображать | 7-дюймовый сенсорный экран | |
| Вакуумная система | Материал камеры | Нержавеющая сталь |
| Скорость утечки в камере | > 15 Па/с | |
| Абсолютный вакуумный пылесос | < 5 Па/с | |
| Измерение вакуума | Вакуумный манометр Пирани | |
| Время выплеснуть эмоции | ≤ 15с | |
| Время остановки откачки | 20-40 лет | |
| Вакуумный насос | 24 м³/ч | |
| Тип насоса | Насос с масляным уплотнением или сухой насос (опционально) | |
| Газовая система | Диапазон расхода технологического газа | 0-300SCCM |
| Трубопроводы для технологических газов | Стандартный (Ar/O2) с 2 МТЭ | |
| Требования к объекту | Источник питания оборудования | AC220 ( ±10%) |
| Источник газа для оборудования (подача воздуха) | ≥ 0,4 МПа | |
| Электропитание оборудования | 1,8 кВт | |
| Операционная среда | 0°C – 50°C |
Напишите нам сообщение!
Наши системные эксперты будут рады вам помочь.
Наши системные эксперты будут рады вам помочь.
