Wie werden Silizium-Wafer gereinigt?
Siliziumwafer werden mittels Nassreinigung oder Plasmatechnologie gereinigt. Bei der Nassreinigung werden in mehreren Schritten Lösungsmittel und Säuren eingesetzt, während bei der Plasmareinigung energiereiche Gase in Vakuumkammern für eine verschmutzungsfreie und präzise Oberflächenbehandlung verwendet werden. Warum die Reinigung von Siliziumwafern wichtig ist: Die Reinigung von Siliziumwafern dient der Beseitigung verschiedener Verunreinigungen, die die Integrität von Bauelementen gefährden. Moderne Fertigungsverfahren widmen der Reinigung von Siliziumwafern den 30-40% […]
