Productos y servicios

VL-100-A

Información adicional

1. Alta capacidad de procesamiento

La cámara de 100 litros, combinada con 6 bandejas de trabajo estándar, permite un procesamiento por lotes eficiente y una mayor productividad para volúmenes de producción medianos y grandes.

2. Rendimiento de plasma potente y uniforme

El generador de plasma de 1000 W garantiza una descarga estable y resultados de tratamiento de superficie uniformes, incluso para geometrías complejas y bandejas con alta densidad de carga.

3. Control flexible del proceso de gas

Los dos MFC estándar (Ar y O₂), con la opción de ampliarlos a tres MFC, permiten una mezcla precisa de gases y una personalización avanzada del proceso para diversas aplicaciones con diferentes materiales.

4. Automatización industrial confiable

El sistema PLC de Siemens proporciona un control preciso de los parámetros, almacenamiento de recetas, trazabilidad del proceso y una fácil integración en líneas de fabricación automatizadas.

Descripción general

El sistema de tratamiento por plasma al vacío VL-100-A de 100 litros está diseñado para procesos de limpieza, activación y recubrimiento funcional de superficies de alta eficiencia, tanto en entornos de I+D como de producción industrial. Equipado con un potente generador de plasma de 1000 W, proporciona una distribución de plasma estable y uniforme para obtener resultados de tratamiento consistentes en lotes de gran volumen. El sistema de control PLC de Siemens garantiza una gestión precisa de los parámetros, el almacenamiento de recetas y una repetibilidad fiable del proceso. La configuración estándar incluye 2 MFC (Ar y O₂), ampliables a 3 MFC para combinaciones de gases flexibles, junto con 6 bandejas de trabajo estándar que se pueden personalizar para adaptarse a diferentes tamaños de piezas y requisitos de producción.

Especificación

Parámetros técnicos
Unidad principal de plasmaDimensiones (L*An*Al)930*765*1750 mm
Cámara (L*An*Al) (personalizable)

515*400*510 mm

Fuente de alimentación de plasmaFuente de alimentación de plasma13,56 MHz / 40 kHz (opcional)
Potencia nominal

1000W

Sistema de controlMétodo de control (PLC)Siemens – SIMATIC HMI Smart 700 IE V5
MostrarPantalla táctil de 7 pulgadas
Sistema de vacíoMaterial de la cámaraAleación de aluminio
Tasa de fuga de la cámara> 15 Pa/s
Aspiradora definitiva< 5 Pa/s
Capas de proceso (personalizables)6 piezas (malla metálica)
Tiempo para desahogarse≤ 10 s
Tiempo de bombeo≤ 80s
Bomba de vacío60 m³/h
Tipo de bombaBomba sellada con aceite o bomba seca (opcional)
Sistema de gasRango de flujo de gas de proceso0-300SCCM
Líneas de gas de procesoEstándar (Ar/O₂) con 2 MFC
Opcional (N₂/H₂/He) con 3 MFC
Requisitos de las instalacionesFuente de alimentación del equipo380V 50Hz, 5 cables
Fuente de gas del equipo (suministro de aire)≥ 0,4 MPa
Potencia de los equipos4,5 kW
Entorno operativo0°C – 50°C

Aplicaciones

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