Chào mừng!

Sự khác biệt giữa khắc đẳng hướng và khắc dị hướng nằm ở cách vật liệu được loại bỏ—khắc đẳng hướng loại bỏ vật liệu đồng đều theo mọi hướng,

Khắc plasma là một quá trình quan trọng trong công nghệ nano, cho phép loại bỏ vật liệu chính xác ở cấp độ vi mô để chế tạo các cấu trúc nano. 

Khắc ion phản ứng (RIE) là một quá trình dựa trên plasma được sử dụng để khắc chính xác các vật liệu trong quá trình chế tạo vi mô, sử dụng các ion phản ứng hóa học để

Nếu bạn từng thắc mắc các mạch nhỏ trong điện thoại thông minh hoặc các thiết bị điện tử khác của bạn được tạo ra như thế nào, thì phương pháp khắc plasma có thể