| 1. Mayor seguridad operativa | El diseño totalmente cerrado protege a los operarios de la exposición al plasma, reduce el ruido y ayuda a contener el polvo o las emisiones del proceso, lo que garantiza un entorno de trabajo más seguro y limpio. |
|---|---|
| 2. Estabilidad superior con doble eje Y. | Los dos ejes Y paralelos proporcionan un mejor equilibrio de carga y estabilidad de movimiento, lo que hace que el sistema sea ideal para procesar sustratos más grandes o múltiples accesorios simultáneamente. |
| 3. Alto rendimiento de productividad | Con velocidades de hasta 500 mm/s en los ejes X/Y y 300 mm/s en el eje Z, la plataforma permite tiempos de ciclo cortos y una integración eficiente en líneas de producción automatizadas. |
| 4. Calidad de tratamiento de alta precisión | Una precisión de posicionamiento de ±0,1 mm garantiza una activación de plasma uniforme y resultados repetibles, incluso para aplicaciones complejas o de alta precisión. |
La plataforma de limpieza por plasma de 3 ejes PL-A6150, totalmente cerrada y de tecnología avanzada, está diseñada para el tratamiento de superficies por plasma de forma precisa y segura en entornos de producción industrial. Con un amplio rango de movimiento en los ejes X/Y/Z (700 mm/400 mm/200 mm) y dos ejes Y paralelos, ofrece mayor estabilidad y un movimiento equilibrado para piezas de mayor tamaño o múltiples piezas. El sistema alcanza altas velocidades de desplazamiento de hasta 500 mm/s en los ejes X e Y y 300 mm/s en el eje Z, lo que garantiza tiempos de ciclo eficientes. Con una precisión de posicionamiento de ±0,1 mm, proporciona un procesamiento por plasma altamente consistente y repetible para aplicaciones exigentes.
| Rango de movimiento (X/Y/Z) (doble eje Y) | 700*400*200 mm |
| Velocidad de movimiento (X/Y) (doble eje Y) | hasta 500 mm/s |
| Velocidad de movimiento (Z) | hasta 300 mm/s |
| Carga máxima | 8 kg |
| Dimensiones del sistema (L*An*Al) | 1000*800*1700 mm |
| Voltaje de entrada | AC220 (±10%) 50-60 Hz |
| Plataforma de energía | 400 W |
| Precisión (repetida) | ±0,1 mm |
| Programación | Unidad de control portátil |
| Almacenamiento / Memoria | Alta capacidad, ≤ 999 archivos con ≤ 56.000 puntos (opcionalmente compatible con USB). |
| Interpolación de movimiento | 3D |
| Señal de E/S | 4 entradas |
| Modo de conducción | Motor paso a paso, correa síncrona |
| Temperatura del entorno de trabajo | 5°C – 40°C |
| Humedad del ambiente de trabajo | 20-90% |
| Peso neto | 100 kilos |
| Modelos de chorro de plasma | Todos los modelos de chorro de una sola pistola son aplicables. |
| Modelos rotatorios de plasma | Todos los modelos rotativos de una sola pistola son aplicables. |
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