| 1. Mayor rendimiento con cabezales dobles | Dos chorros de plasma rotatorios permiten el tratamiento simultáneo de superficies, lo que reduce significativamente los tiempos de ciclo y aumenta la productividad en líneas de producción de alto volumen. |
|---|---|
| 2. Amplia y flexible gama de tratamientos | Cada cabezal cubre un área de 16 a 110 mm (según la versión de la boquilla), lo que permite un procesamiento eficiente de superficies medianas y grandes, adaptándose fácilmente a diferentes tamaños de componentes. |
| 3. Rendimiento de plasma de alta potencia | Con una potencia de salida de 750 a 1500 W por cabezal de pistola, el sistema garantiza una activación de superficie fuerte y estable, así como un rendimiento de limpieza profunda para aplicaciones exigentes de unión, recubrimiento e impresión. |
| 4. Procesamiento uniforme y de alta velocidad | Al operar a 2000-3000 RPM, el movimiento rotatorio proporciona una distribución homogénea del plasma y resultados de tratamiento consistentes, incluso en geometrías complejas. |
Este sistema de chorro rotatorio de plasma de doble cabezal PL-5050-2/3K cuenta con dos cabezales independientes, cada uno con un ancho de tratamiento ajustable de 16 a 110 mm (según la versión de la boquilla) para una máxima cobertura y flexibilidad. Con una potente salida de plasma de 750 a 1500 W por cabezal y velocidades de rotación de 2000 a 3000 RPM, ofrece una activación de superficie uniforme y de alta intensidad a altas velocidades de procesamiento. Su diseño rotatorio garantiza un tratamiento uniforme de 360°, lo que lo hace ideal para componentes grandes y geometrías complejas. Su robusta construcción asegura un rendimiento fiable en entornos de producción industrial exigentes.
| Tipo de pistola a reacción | PL-R2 |
| Dimensiones de la pistola de chorro (L*An*Al) | 340,5*100*100 mm |
| Ancho del tratamiento | 16-110 mm (x2) |
| Tipos de boquillas | 16, 20, 30, 40, 50, 70, 85. 100 |
| Voltaje de entrada | AC220 ( ±10%) 50-60Hz, ⏚ < 4Ω |
| Corriente de entrada | 1,6-3,0 A |
| Potencia de salida de plasma por canal | 750-1500 W |
| Potencia total de salida del plasma | ≤ 3 kW |
| Frecuencia de potencia | 17,3-30 kHz |
| Suministro de aire | externo (120 L/min) |
| Presión de entrada de aire | 0,4-0,8 MPa |
| Presión de funcionamiento | 0,05-0,22 MPa |
| Sincronización | Señal |
| Velocidad del motor (ajustable) | 2000-3000 RPM |
| Mostrar | LED de 3,5″ |
| Corchetes (opcional) | Microajuste universal / Microajuste deslizante |
| Humedad del ambiente de trabajo | < 93% |
| Temperatura de almacenamiento | (-)25°C – (+)55°C |
| Dimensiones (L*An*Al) | 807*405*423 mm |
| Peso neto | 48 kg |
| Dimensiones de la caja (largo*ancho*alto) | 890*450*560 mm |
| Peso bruto | 63 kg |
| Retroalimentación de control | E/S de arranque/parada, arranque/parada por retroalimentación, salida Jet, retroalimentación de alarma |
| Funciones de detección | Presión atmosférica, sobretemperatura, subcorriente y sobrecorriente, Velocidad del motor, potencia, fallo del controlador, potencia |
| Funciones de alarma | Presión atmosférica, sobretemperatura, subcorriente y sobrecorriente, Fallo de plasma, alarma |
| Descripción | Cantidades |
|---|---|
| Sistema de tratamiento de plasma PL-5050-2/3K (ordenador central) | 1 |
| Pistola de plasma rotativa – PL-R2 | 2 |
| Boquilla de plasma (según el ancho del tratamiento) | 2 |
| Manual de instrucciones, tarjeta de garantía, CoC, etc. | 1 unidad |
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